近日，清华大学许华平教授团队在EUV 光刻材料上取得重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷（Polytelluoxane, PTeO）的新型光刻胶。光刻胶是一种对光敏感的特殊材料，将它涂在硅片表面后，光刻机负责“打光...